2025년 6월 22~25일까지 제주 국제컨벤션센터에서 개최되었던 2025 ALD/ALE 국제학회에서 신소재공학과 박막소자연구실(지도교수 : 한정환 교수) 소속 연구원인 안지상 박사과정이 ALD Student Poster Awards에서 1위, 신정은 석사과정이 ALD Student Poster Awards에서 Recognition , 주은지 석사과정이 ALE Student Poster Awards에서 1위를 수상하였다.

박사과정 안지상은 "Thermal Atomic Deposition of Ru-incorporated Molybdenum Carbide Thin Films via Inter-ligand Reaction for Advanced Copper llization" 연구에서 Ru이 도핑된 Mo carbide 박막을 기존의 ALD 방식과 차별화가 있는 inter-ligand reaction이라는 신규 컨셉의 ALD 공정을 성공적으로 개발하였으며, 차세대 반도체 로직 소자의 구리 확산 방지막 및 seed 로서의 적용 가능성을 평가하였다.

석사과정 신정은은 "Valence-state Controlled Growth of P-type Tin(II) Monoxide Films by Atomic Deposition using a Novel Sn Precursor” 연구에서, 신규 Sn 전구체를 이용한 SnO ALD 공정 조건 확보 및 박막 물성 평가를 통해 Thin film transistor의 channel 적용 가능성을 제시하며 소자 성능 최적화를 진행하였다. 

석사과정 주은지는 "Fabrication of Ultrathin Ruthenium Films via a Top-Down Approach Using Thermal Atomic Etching" 연구에서 공정 변수에 따른 식각 거동에 대해 분석하여, 루테늄 박막의 Thermal ALE 공정 조건을 확보하였다. 또한 이를 Ru ALD 박막에 적용해 원자층 수준에서도 우수한 특성을 갖는 박막 확보가 가능함을 실험적으로 입증해 차세대 원자층 제어 기술로서 Ru Thermal ALE의 가능성을 확인하였다.