| 신소재공학과
| 신소재공학과
학과소식
[01811] 서울 노원구 공릉로 232 서울과학기술대학교 신소재공학과
TEL : 02-970-6613, 6637
FAX : 02-973-6657
Copyright (c) SEOUL NATIONAL UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY. All Rights Reserved
| 제목 | 신소재공학과 나노전자소자연구실, ‘2025 한국전기전자재료학회 하계학술대회(KIEEME 2025)’에서 포스터 부문 총 4개 수상 | 날짜 | 2025-07-08 | 조회수 | 105 |
|---|---|---|---|---|---|
| 작성자 | 신소재공학과 | ||||
| 첨부파일 | |||||
|
지난 6월 18~20일 부산 BEXCO에서 개최되었던 2025년도 한국전기전자재료학회 하계학술대회에서 신소재공학과 나노전자소자연구실(지도교수: 최병준 교수) 소속 연구원인 석사과정 정시은 학생이 최우수포스터상, 학사과정 양태준 학생이 학부생 경진대회 우수상, 학사과정 신진경, 홍윤재 학생이 학부생 경진대회 장려상을 수상하였다.
한국전기전자재료학회는 1987년 설립되어 지난 2015년부터 학술대회를 주관하며 국내 전기전자재료 연구 개발의 최신 동향을 발표하고 첨단 기술의 성장 방향성을 공유할 수 있는 기회를 제공해왔다.  석사과정 정시은은 “Atomic Infiltration of Al2O3 for Hybrid Encapsulation of OLED Display” 연구에서 ALI 공정을 통해 Polyimide(PI) film에 Al2O3를 성공적으로 침투시켜, 유연한 유기-무기 하이브리드 봉지층이 차세대 flexible OLED의 장기 안정성을 확보할 수 있는 고성능 단일층 봉지 재료로 적용될 수 있음을 보고하였다.  학사과정 양태준은 “PEALD of GeTex with Substrat-Driven Selectivity and Film Properties” 연구에서 PEALD 공정을 이용하여 다양한 기판 위에 GeTe를 증착함으로써, 칼코게나이드 물질의 Area-Selective ALD(ASD) 가능성을 보고하였다. Passivation 를 도입하여 기판 의존성 문제를 해결하였으며, 별도의 식각 공정 없이도 3D 적층 구조 구현이 가능할 것으로 기대된다.
학사과정 신진경은 "Characterization of Al2O3 Thin Films Deposited by UV-Assisted Atomic Deposition" 연구에서, Al2O3 UV-Assisted ALD 공정 조건의 최적화를 위해 UV 조사 위치와 조사 시간에 따른 Al2O3 박막의 표면 특성 및 화학적 특성을 보고하였다. 본 연구는 같은 연구실의 석사과정 은수민 학생의 도움을 받아 수행되었다.
학사과정 홍윤재는 “Electrode Interface Effects on Conduction Mechanism in Selecor-Only-Memory Devices” 연구에서 Selector-Only Memory(SOM) 소자에 carbon 층을 도입하여 전극 물질에 따른 threshold voltage 변화 및 memory window 향상을 확인하였으며, 이를 통해 계면 특성 조절을 통한 SOM 성능 제어 가능성을 제시하였다. |
|||||
 |
신소재공학과 박막소자연구실, 2025 ALD/ALE 국제학회에서 포스터 부문 총 3개 수상 |
|---|---|
 |
신소재공학과 기능성나노재료연구실, ‘2025년 한국자기학회 하계학술대회’ 성림우수대학원생상 및 우수발표상 수상 |
