신소재공학과 박막소자연구실(지도교수: 한정환 교수) 소속 연구원인 조현희(신소재공학과 일반대학원 석사과정), 조원호(신소재공학과 학사과정)이 지난 2월 13일~ 15일 강원도 하이원리조트에서 개최되었던 제30회 한국반도체학술대회(KCS 2023)에서 Thin Film Process Technology 분과 현장우수포스터상(조현희), 학부생 분과 현장우수포스터상(조원호)을 수상하였다.

 
한국반도체학술대회는 1994년부터 시작되어 반도체 최신 연구 결과와 성장 방향성을 공유하는 국내 최대 규모의 반도체학술행사이다.
  

석사과정 조현희는 “Impact of Atomic--Deposition Mo(C,N) Bottom Electrode on the Ferroelectric Properties of Hf-Zr-O Capacitors”의 연구에서 ALD로 성장시킨 molybdenum carbide, nitride 하부 전극과 Hafnium-zirconium oxide (HZO) 박막으로 제작한 capacitor 소자의 강유전성, 신뢰성 특성 향상을 보고하였으며 평가를 통하여 차세대 ferroelectric device로의 적용 가능성을 제시하였다.

 
학부과정 조원호는 “Hollow Cathode Plasma Atomic Deposition of Low-Resistivity NbN Films Using Novel Nb Precursor”의 연구에서 Novel Nb precursor와 Hollow cathode plasma를 이용하여 PEALD로 성장시킨 niobium nitride 박막 증착 공정 최적화 및 박막의 전기적 특성 향상을 보고하였으며, Copper diffusion barrier, gate material로의 차세대 배선 소재로의 적용 가능성을 제시하였다.