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| 제목 | 신소재공학과 박막소자연구실, 2022 ALD 국제학회에서 우수 포스터상 수상 | ||||
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| 작성자 | 관리자 | 조회수 | 2146 | 날짜 | 2022-07-17 |
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지난 6월 26일~29일 미국 진공 학회(AVS) 주관으로 개최된 2022 ALD 국제학회 (22nd International Conference on Atomic Deposition, June 26-29, 2022, Ghent, Belgium)에서 신소재공학과 박막소자연구실 (TED Lab, 지도교수 한정환) 소속의 석사과정 조현희 학생과 김진아 학생이 각각 우수 포스터상(Best Poster Award)을 수상하였다.
조현희 학생은 ‘Hafnium zirconium oxide-d ferroelectric field effect transistor with atomic--deposited indium gallium tin oxide channel ' 주제로 'Poster Third Place Award’을, 김진아 학생은 ‘Intense Pulsed Light Annealing of Low-temperature Atomic--deposited SnO Thin Films for P-channel Thin Film Transistor' 주제로 'Poster Recognition Award’을 수상하였다.
ALD 국제학회(International Conference on Atomic Deposition)은 최신 반도체 공정인 원자층 증착 공정에 관련된 세계 최대의 학회로, 이번에 22회째를 맞이한 ALD 2022에는 800 명이 넘는 관련 연구자들이 참가하여 논문을 발표하였다.
조현희, Hafnium zirconium oxide-d ferroelectric field effect transistor with atomic--deposited indium gallium tin oxide channel , Third Place Awardee
▲신소재공학과 박막소자연구실 |
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