2026년 6월 28일~7월 1일, 미국 플로리다 주 Tampa의 JW Marriott Water street에서 개최되었던 AVS 26th ALD/ALE 국제학회에서 신소재공학과 나노전자소자연구실(지도교수: 최병준 교수) 소속 연구원인 석박사 통합과정 김현욱이 ALD Student Awards에서 3위를 수상하였다.


 AVS ALD/ALE 학회는 전 세계 대학, 연구소, 글로벌 반도체 기업들이 모여 원자층 증착(ALD) 및 식각(ALE) 분야의 최신 기술과 연구 성과를 공유하는 국제 학회이다.

 석박사통합과정 김현욱은 "Implementation of Vertical Selector-only Memory via ALD-grown Ge_XSe_YTe_Z Thin Films" 연구에서 ALD 기반 Ge–Se–Te 박막의 조성 제어 공정을 개발하고, 이를 평면형 및 수직형 Selector-only Memory 소자에 적용하여 안정적인 문턱 스위칭과 메모리 동작을 구현하였으며, 고집적 3차원 차세대 비휘발성 메모리 소자로서의 적용 가능성을 평가하였다.